MicroShield® - 辐射剂量计算软件-北京睿驰科技

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MicroShield ®

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计算分析辐射屏蔽效能的辐射剂量计算软件

几何配置与多层屏蔽

提供 16 类几何配置，包含点源、线源、圆盘、矩形面、球体、圆柱及环形圆柱、矩形体、截锥、无限平面和无限平板等，并区分相应的屏蔽方向及内外计算点形式。

支持偏置剂量计算点、至多十层标准屏蔽，以及源自屏蔽和圆柱包覆层。几何显示可随尺寸输入重新缩放，并可为各剂量点设置固定空气间隙。

尺寸可采用米、厘米、英尺或英寸输入，并支持小数逗号等国际数值格式。屏蔽层与材料条件可结合项目模型设置，用于比较不同屏蔽方案的计算结果。

提供内置及自定义材料数据，可按组分建立自定义材料。材料库包含一百余种自定义材料，并采用 NIST 等参考数据中的质量衰减系数支持相应计算。

源项可按核素或能量定义，采用浓度或总量输入，并保存、在不同算例之间复用。提供多种光子分组方式，也支持用户定义分组。

可计算源项衰变及其子体生成，使用与 RadDecay 相同的相关算法，便于分析源项随时间的变化。基础衰变能力与 Pro 的扩展衰变工具分别提供。

可同时计算考虑积累效应的结果与未碰撞结果。剂量换算数据覆盖 ICRP 与 ANSI/ANS 等参考体系，并可形成剂量当量报告。

核素及相关参考数据涉及 ICRP-38、ICRP-107，以及 ANSI/ANS 和 RSICC 文献。剂量换算因子包括 ICRP-21、ICRP-51、ICRP-74、ICRP-116 和相应 ANSI/ANS 数据。引用这些数据不等同于软件自动完成项目的法规符合性审查。

可根据辐射测量结果估算源强，并在反推计算中考虑衰变和子体增长，支持剂量结果与源活度之间的相关分析。

提供照射量率等随衰变时间变化的分析工具，可研究衰变引起的剂量率变化，并将相应结果绘图。

提供衰变热及能量计算工具，供源项衰变相关的工程分析使用。

对部分几何配置提供多层积累因子及积累因子敏感性分析，另有材料与核数据查看器，供检查计算所用数据。

MicroShield® LT 基础版面向基本屏蔽与剂量计算；MicroShield® Pro 专业版增加源项分析、衰变热与数据查看等工具，可按实际计算任务选择。

功能项目	LT 基础版	Pro 专业版
Windows 10／11 与国际数值格式	✓	✓
三维求解引擎与 16 类几何配置	✓	✓
SI 与英制单位输入	✓	✓
自定义材料（可含至多 30 种组分）	✓	✓
核素源项与剂量换算数据	✓	✓
源项衰变及子体生成	✓	✓
批处理工具	✓	✓
结果导出至 Word、Excel	✓	✓
一般敏感性分析工具	✓	✓
部分几何配置的多层积累因子		✓
部分几何配置的积累因子敏感性分析		✓
外部源工具（External Source Tool）		✓
源强反推工具（Source Inference Tool）		✓
照射量率工具（Exposure Rate Tool）		✓
衰变热工具（Decay Heat Tool）		✓
材料与核数据查看器		✓